詳情介紹：
輝光放電分析（GDA）于1968年**出現(xiàn)，用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。
這種分析方法不斷地發(fā)展，尤其擅長(zhǎng)于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比，輝光放電
技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)是能夠表層分析樣品的表層。
適用于質(zhì)量控制和材料研究
在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。
表面處理工藝過(guò)程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過(guò)分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。
采用濃度分布分析功能可以精 確地測(cè)量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。
對(duì)于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問(wèn)題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。
采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。
GDA750可以配備60個(gè)以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂（鍍）層的深度可測(cè)量至200um表面分析和獲得的分辨率達(dá)1個(gè)原子層。分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用；化學(xué)成分可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時(shí)測(cè)定。通過(guò)比較涂（鍍）層工藝過(guò)程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過(guò)程佳化和大程度地避免廢品浪費(fèi)。
輝光放電光譜儀GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。
采用脈沖式射頻光源后，可分析非導(dǎo)體、熱敏感樣品，如：陶瓷、玻璃、有機(jī)涂層、有機(jī)薄膜。還可選裝配置特殊樣品轉(zhuǎn)移室（選裝件），用于分析極薄的薄膜和空氣中易氧化的薄膜。
GDA750/GDA550輝光放電光譜儀是高靈敏度、高性能的光譜儀，可適用于表面和涂鍍層的化學(xué)元素含量分析。多達(dá)79個(gè)分析通道，采用PMT檢測(cè)器，GDA750/GDA550型輝光放電光譜儀是高分辨率、高靈活性和高分析精度的儀器，同時(shí)可安裝獨(dú)有的高分辨率CCD光學(xué)系統(tǒng)（選裝件），允許同時(shí)分析所有元素，具備全譜功能，也可在現(xiàn)有的方法中添加任一元素的任一譜線。
這種靈活性在分析中，尤其對(duì)于元素含量和深度測(cè)定中至關(guān)重要。所有元素，包括輕元素（H,O,N,Cl和C）均可測(cè)定。在含量-深度測(cè)量中，分析深度可達(dá)200微米以上，層分辨率可達(dá)1納米。GDA750/GDA550也可進(jìn)行基體總量分析，尤其對(duì)于復(fù)雜基體，具備優(yōu)異的線性校準(zhǔn)曲線。檢出限可達(dá)亞PPM級(jí)。
GDA750/GDA550輝光光譜儀裝備有新一代的輝光激發(fā)光源，濺射直徑從1mm至8mm。采用通用樣品夾具，也可進(jìn)行小樣品和異形樣品的分析，無(wú)需更換特殊電極。
GDA750也可選裝配置脈沖式射頻電源（選裝件），用于分析非導(dǎo)體材料及涂鍍層。
輝光放電光譜儀主要特點(diǎn)：
1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測(cè)和測(cè)量
2.濃度分布測(cè)定和表層測(cè)量數(shù)據(jù)的定性/定量評(píng)價(jià)
3.測(cè)定被分析表面層內(nèi)部的相/相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用
5.具有許多適于用戶的軟件功能選項(xiàng)，如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式
